nepes
(주)네패스EM 개발팀 경력 채용
정규직(풀타임)대면근무연구·R&D
AI 요약
네패스에서 석사 이상 경력 5~10년의 Photoresist 개발 인력을 채용하며, 재료 개발과 조성 개발 업무를 수행합니다.
주요 업무
Photoresist 재료 개발(Polymer 중합, PAG 합성, 재료 분석), Photoresist 조성 개발(샘플 평가, PR 분석, SEM 측정, 실험 계획)
자격 요건
경력 5~10년, 석사 이상, 화학 소재 계열(화학/화학공학/고분자공학/신소재공학 등)
기술 스택
SEMPolymer 중합PAG 합성재료 분석코팅노광PR 분석
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